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簡(jiǎn)要描述:ORTEC 在 alpha 譜儀上采用超低本底和 PIPS 工藝(表面鈍化、離子注入、可擦洗)硅探測(cè)器,同時(shí)真空艙室也為(超)低本底材料。面積上提供 300、450、490、600、900 和 1200mm2 的選擇(對(duì)-MEGA 探測(cè)器直徑可選至最大 3000mm2),有效耗盡層 100μ m。
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1.4.2 Alpha Suite 單路至八路 alpha 譜儀
ORTEC 在 alpha 譜儀上采用超低本底和 PIPS 工藝(表面鈍化、離子注入、可擦洗)硅探測(cè)器,同時(shí)真空艙室也為(超)低本底材料。面積上提供 300、450、490、600、900 和 1200mm2 的選擇(對(duì)-MEGA 探測(cè)器直徑可選至最大 3000mm2),有效耗盡層 100μ m。
關(guān)于Ultra-AS 探測(cè)器的詳細(xì)信息,請(qǐng)參考本手冊(cè) 35、36 頁(yè)。
MEGA/DUO/Ensemble:
Alpha-DUO 是一個(gè)完整的雙路 alpha 譜儀,用于傳統(tǒng)制樣方法下 alpha 樣品的分析;Alpha-MEGA 是一個(gè)完整的單路 alpha 譜儀,其形制大小等同于 Alpha-DUO,由于擴(kuò)大了測(cè)量艙室并可采用最大3000mm2 的探測(cè)器,它的設(shè)計(jì)是用于直接測(cè)量最大 106mm 直徑的濾紙濾膜樣品。
Ensemble 是一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)、可最多容納四個(gè)或-DUO、或-MEGA、或其組合體的機(jī)箱。
-DUO 和-MEGA 既可以獨(dú)立工作,也可以嵌入 Ensemble 主機(jī)中形成多路的 alpha 譜儀。
結(jié)構(gòu)特性與性能指標(biāo):
探測(cè)器的面積可選 300 /450/490/600/900/1200 mm2;樣品直徑可從 13mm 至 51mm。探測(cè)器與被測(cè)樣品之間有 10 檔距離可選,相鄰兩檔之間的距離差為 4mm, 最大距離可達(dá) 44mm。
wan全數(shù)字化且每路wan全獨(dú)立的 MCA,一切參數(shù)由計(jì)算機(jī)控制。(Alpha Aria 由外面板控制真空) 真空計(jì):范圍 10mTorr 到 20Torr。
探測(cè)器偏壓:范圍 0±100V, 大小和正負(fù)極性可調(diào)節(jié)。漏電流檢測(cè)器:范圍 0 到 10,000nA,顯示分辨率 3nA。
脈沖產(chǎn)生器;范圍 0 到 10Mev,穩(wěn)定性<50ppm/oC ,脈沖的幅度可調(diào)。
數(shù)字化 MCA:通過(guò)軟件可設(shè)置系統(tǒng)轉(zhuǎn)換增益(道數(shù))為 256、512、1024、 2048 或者 4096 道,細(xì)調(diào)增益為 0.25 到 1;增益穩(wěn)定性: ≤150ppm/oC;每個(gè)事件的轉(zhuǎn)換時(shí)間(死時(shí)間):<2 µs 。
數(shù)字化穩(wěn)譜、ADC 的零點(diǎn)(ZERO)和下閾(LLD)均由計(jì)算機(jī)調(diào)節(jié)設(shè)置。譜儀的探測(cè)器偏壓、漏電流均可在軟件相關(guān)界面上以數(shù)字和圖形顯示出來(lái)。
輸入電源:120/240 V ac, 50/60 Hz 輸入功率 50W。
通訊:USB2.0 接口。每一個(gè) Alpha Ensemble 最終提供一條電纜給PC。應(yīng)用軟件:MAESTRO-32 或 AlphaVision
Ensemble-8 尺寸:48.5cm W× 49.2cm D × 27.2cm H;凈重:26.6 kg; 工作條件: 溫度 0oC 到 50oC, 相對(duì)濕度 ≤ 95%。
分辨率與本底:基于使用 450mm2 ULTRA-AS 探測(cè)器和高質(zhì)量的 241Am 點(diǎn)源,能量分辨率(FWHM):≤20KeV (探測(cè)器到源的距離等于探測(cè)器的直徑),探測(cè)器效率: ≥25% (探測(cè)器到源的距離小于 10mm),本底:在 3MeV 以上, 每小時(shí)計(jì)數(shù)≤1。
另幾款探測(cè)器的分辨率(@5.486MeV):
ENUS-490,FWHM): ≤ 22KeV; ENUS-600,FWHM): ≤ 24KeV; ENUS-900,FWHM): ≤ 29KeV; ENUS-1200,FWHM): ≤ 37KeV
Ensemble/DUO/MEGA 都已植入反沖抑制功能,只需配置反沖抑制 盤(pán) RCAP-ST 即可實(shí)現(xiàn)該功能,從而盡可能避免探測(cè)器與艙室被 alpha 粒子沾污。